2020年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元
發(fā)布日期： 2021-06-04 16:54:48 來源： 第一財(cái)經(jīng)
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。2016-2019年，全球半導(dǎo)體光刻膠的市場規(guī)模從15億美元增長至2019年的18億美元，年復(fù)合增速達(dá)6.3%，2020年，全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模約為19億美元。全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域主要被JSR、TOK、羅門哈斯、信越化學(xué)、富士材料等頭部廠商壟斷，尤其是高端EUV和ArF光刻膠幾乎完全被美國和日本控制。國產(chǎn)光刻膠企業(yè)無論是技術(shù)水平還是市場份額均遠(yuǎn)落后世界先進(jìn)廠商。
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